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日立X射線熒光光譜儀影響分析速度的因素
更新時間:2018-02-08   點擊次數(shù):3235次

X-射線熒光光譜:作為一種比較分析技術(shù),在較嚴格的條件下用一束X射線或低能光線照射樣品材料,致使樣品發(fā)射特征X射線。這些特征X射線的能量對應(yīng)于各特定元素,樣品中元素的濃度直接決定射線的強度。該發(fā)射特征X射線的過程稱為X射線熒光或XRF.
 

X射線熒光光譜儀有兩種基本類型:波長色散型(WD-XRF)和能量色散型(ED-XRF)
 

一臺典型的XRF儀器的核心硬件包括X射線源與X射線探測器及多通道數(shù)字脈沖處理器。其中X射線源是提供激發(fā)樣品特征X射線的光源, X射線探測器檢測X射線光子的裝置,并能把它的能量按照光子的振幅比例來轉(zhuǎn)化為具有電子能量的脈沖,而多通道數(shù)字脈沖處理器則能夠?qū)⑻綔y器轉(zhuǎn)化來的脈沖信號進行處理,從而得到X射線的能譜圖。
 
日立X射線熒光光譜儀EA1000AIII通過將可選項的精度管理型軟件進一步升級,并使之成為標準配備,實現(xiàn)了低價格化。與以往儀器相比,環(huán)境管制物質(zhì)的測量時間大幅縮短,材料辨識功能、分析線切換功能、清晰易懂的操作面板……易用性大大提高,分析速度更快,操作更簡單。